Target Pabrik Sputtering ZhenAn Zr
Zhenan memiliki lebih dari 30 tahun pengalaman dalam produksi target sputtering zirkonium dan dapat memberi Anda layanan eksklusif satu-satu. Jika Anda tertarik dengan produk ini, Anda dapat menghubungi kami untuk menanyakan harga yang relevan.
Target Penyemprotan Zirkonium Kemurnian Tinggi
Target sputtering zirkonium (Zr) digunakan dalam tampilan semikonduktor, deposisi uap kimia (CVD) dan deposisi uap fisik (PVD) serta aplikasi optik.
Pabrik kami mengkhususkan diri dalam memproduksi target sputtering zirkonium (Zr) dengan kepadatan tinggi dan kemurnian tinggi serta harga terendah.
Spesifikasi Target Zirkonium Berkualitas Tinggi
|
Nama Produk |
Sasaran zirkonium |
|
Kemurnian yang Tersedia |
99,95%min, sesuai permintaan Anda |
|
Bentuk yang tersedia |
bulat, persegi panjang, pelet |
|
Kepadatan |
6,508/cm3 |
|
Titik lebur |
1852 derajat |
|
Teknologi |
Meleleh |
Keunggulan Target Zirkonium Di Pabrik Kami
- Permukaan halus, tidak ada pori-pori, goresan dan cacat lainnya
- Mengasah atau memutar tepi tanpa meninggalkan bekas pemotongan
Layanan Kami
- Produsen profesional --15 tahun pengalaman
- Kontrol kualitas yang ketat - inspeksi SGS
- Kapasitas pasokan tinggi --3000MT/bulan
- Pengiriman cepat - dalam waktu 15 hari
Zhenan memiliki tim transportasi profesional untuk memastikan keamanan lingkungan transportasi kargo. Untuk memesan produk, silakan hubungi:info@zaferroalloy.com.