Pengenalan Target Sputtering Zirkonium
Target sputtering zirkonium (Zr) dapat digunakan untuk semikonduktor, tampilan deposisi uap kimia (CVD) dan deposisi uap fisik (PVD) serta aplikasi optik. Eternal Elements mengkhususkan diri dalam produksi target sputtering zirkonium (Zr) dengan kemurnian tinggi dengan kepadatan tinggi dan harga terendah.
Target sputtering Zirkonium (Zr) dengan kemurnian lain: 99% - 99.5%
Bentuk lain dari target sputtering Zirkonium (Zr): cakram, pelat target, target pilar, target tangga, target khusus
Pengemasan: Target penyemprotan zirkonium (Zr) disegel vakum. MSDS dan lembar sertifikasi material akan dikemas bersama produk.
Keunggulan Kami
1.Teknologi kelas satu dan sikap kerja yang ketat
2. Tim profesional untuk menyelesaikan semua jenis masalah yang Anda miliki selama proses manufaktur
3.Biaya pembelian rendah untuk pesanan berulang
4. Layanan pelanggan yang sangat baik
Keunggulan kami
1. Harga kompetitif.
2. Keunggulan kami lebih unggul dibandingkan pemasok lain.
3. Harga sama, kualitas dapat diandalkan.
4. Pengiriman tepat waktu sesuai kebutuhan Anda.
5. Layanan profesional, sangat mengurangi biaya pengadaan.
Layanan kami
1. Pengiriman tepat waktu
2. Pengiriman dari pintu ke pintu
3. Garansi komprehensif yang mencakup semua produk kami
4. Respon cepat terhadap pertanyaan dan masalah purna jual
Sifat Mekanik Target Zirkonium
|
titik lebur
|
2128 K (1855 derajat)
|
|
titik didih
|
4682 K (4409 derajat)
|
|
Panas fusi
|
16,9 kJ/mol
|
|
Panas penguapan
|
58,2 kJ/mol
|
|
Kecepatan suara
|
3800 m/s(293.15K)
|
|
Volume molar
|
14,02×10-6m3/mol
|
Lingkungan perusahaan dan kunjungan pelanggan
Pabrik kami profesional dan dapat diandalkan, kami bekerja keras dan memperlakukan pelanggan dengan sabar, memungkinkan pelanggan untuk benar-benar merasakan layanan baru yang meyakinkan, penuh perhatian, dan bebas khawatir.