Aplikasi di bidang semikonduktor
Dalam manufaktur semikonduktor,target tungstenterutama digunakan dalam fotolitografi dan teknologi deposisi film tipis. Dalam proses fotolitografi, target tungsten dengan kepadatan tinggi, kekerasan tinggi, dan reaktivitas kimia yang rendah memungkinkan target tungsten memberikan kontrol pengetsaan yang tepat selama pengetsaan plasma, mengurangi kehilangan material yang tidak perlu, dan memastikan kehalusan dan integritas pola sirkuit. Dalam teknologi deposisi film tipis, target tungsten membentuk film padat melalui deposisi uap fisik (PVD) dan deposisi uap kimia (CVD). Film-film ini memiliki kekerasan dan ketahanan aus yang tinggi, yang meningkatkan kekuatan mekanik dan daya tahan perangkat semikonduktor. Pada saat yang sama, konduktivitasnya yang tinggi dan impedansinya yang rendah membantu meningkatkan efisiensi konduksi arus dan mengurangi konsumsi daya.
Penerapan sumber neutron spalasi
Target tungsten juga memainkan peran penting dalam perangkat sumber neutron spalasi. Sumber neutron spalasi menghasilkan neutron dengan membombardir inti atom berat dengan proton berenergi tinggi, yang digunakan untuk mempelajari struktur mikro dan sifat dinamis materi. Tungsten telah menjadi bahan pilihan dalam perangkat fusi nuklir dan sumber neutron spalasi karena titik lelehnya yang tinggi, konduktivitas termal yang tinggi, dan laju sputtering yang rendah.