Definisi:Target Molybdenumadalah target sputtering yang terbuat dari logam molybdenum dengan kemurnian tinggi (lebih besar dari atau sama dengan 99,95%) melalui metalurgi bubuk, peleburan dan proses lainnya. Dalam proses pelapisan seperti deposisi uap fisik (PVD), ini digunakan sebagai sumber molibdenum untuk menyimpan film molibdenum pada berbagai bahan substrat.
Karakteristik
Sifat fisik: Ini memiliki titik leleh yang tinggi sekitar 2623 derajat dan dapat mempertahankan stabilitas struktural di lingkungan suhu yang sangat tinggi; konduktivitas listrik dan termal yang baik, yang kondusif untuk disipasi panas komponen elektronik dan transmisi sinyal listrik; Kekuatan mekanik yang tinggi, dapat menahan beban tinggi pada suhu tinggi.
Sifat Kimia: Ini memiliki ketahanan korosi yang baik terhadap sebagian besar asam dan alkali pada suhu kamar; Laju oksidasi relatif rendah, dan lapisan oksida terbentuk pada permukaan dapat mencegah oksidasi lebih lanjut.
Tampilan Gambar Produk Target Molybdenum Target Tinggi
