Tantalum Crucibles For E-Beam Sources high quality
1/
Wadah Tantalum Untuk Sumber Sinar E-
Crucible Tantalum untuk sumber sinar E adalah wadah yang dirancang secara presisi-yang digunakan dalam sistem penguapan berkas elektron, dimana stabilitas termal yang tinggi dan pelepasan gas yang sangat rendah sangat penting untuk menjaga integritas vakum dan kemurnian endapan.
Kirim permintaan
Deskripsi
Parameter teknis
Peran Wadah Tantalum dalam Penguapan Berkas Elektron
Crucible Tantalum untuk sumber sinar E adalah wadah yang dirancang secara presisi-yang digunakan dalam sistem penguapan berkas elektron, dimana stabilitas termal yang tinggi dan pelepasan gas yang sangat rendah sangat penting untuk menjaga integritas vakum dan kemurnian endapan.
Dalam deposisi E-beam, berkas elektron terfokus menguapkan bahan sumber di dalam wadah, dan uap yang dihasilkan mengembun ke substrat sebagai film tipis. Tantalum dipilih karena titik lelehnya yang tinggi memungkinkan penguapan logam tahan api (misalnya W, Mo, Ta itu sendiri) dan oksida tanpa kegagalan wadah. Tekanan uapnya rendah pada suhu operasi (<10⁻⁸ Pa at 2500 °C) prevents crucible material from contaminating the deposited film. Additionally, tantalum's low outgassing rate (<10⁻⁹ Torr·L/s·cm²) helps sustain UHV conditions (<10⁻⁷ Pa) crucial for high‑performance optics and semiconductor coatings.
Milik
Nilai / Rentang
Pentingnya Pengoperasian Sumber E‑Beam
Titik lebur
3017 derajat
Memungkinkan penguapan material-bertitik leleh tinggi
Tekanan uap @ 2500 derajat
<10⁻⁸ Pa
Menghilangkan kontaminasi uap wadah
Tingkat pelepasan gas (UHV)
<10⁻⁹ Torr·L/s·cm²
Mempertahankan kualitas vakum untuk deposisi bersih
Konduktivitas termal
57 W/m·K
Memastikan pemanasan seragam dan mengurangi titik panas
Pertimbangan Desain untuk Crucible Tantalum E‑Beam
Crucible dibuat dengan dinding tipis (1–3 mm) untuk memaksimalkan perpindahan panas dari berkas elektron sekaligus meminimalkan massa termal yang tersimpan. Geometri sering kali berbentuk silinder dengan bagian bawah membulat untuk menghindari sudut tajam di mana material cair dapat menggenang atau menjadi terlalu panas secara lokal. Untuk menahan kerusakan akibat elektron berenergi tinggi, beberapa desain menggunakan jaket berpendingin air atau menggunakan cawan lebur dengan orientasi butir yang disesuaikan untuk mendistribusikan dampak elektron secara merata.
Kasus Penggunaan Industri untuk Crucible Tantalum E‑Beam
Lapisan Optik – Penguapan TiO₂, Al₂O₃, dan SiO₂ untuk lensa dan cermin laser yang memerlukan kontrol indeks bias tinggi.Mikroelektronika – Deposisi lapisan penghalang (misalnya, TaN) dan logam interkoneksi yang kemurniannya berdampak langsung pada keandalan perangkat.Teknologi Tampilan – Penguapan indium timah oksida (ITO) yang seragam untuk lapisan konduktif transparan.Kompatibilitasnya dengan sistem pengumpan otomatis dan masa operasional yang lama menjadikannya standar dalam ruang pelapisan throughput tinggi untuk kaca arsitektur, optik presisi, dan substrat elektronik canggih.
Bahan Evaporasi 99,95% Wadah Tantalum 3N5 untuk Evaporator Berkas Elektron
Pabrik Pengolahan Suku Cadang Tantalum Disesuaikan Ukuran Berbeda Wadah tantalum Abu-abu Cerah Untuk Bagian Proses Peleburan
Disesuaikan R05200 Ta 99,95% Murni Dipoles Tantalum Crucible tantalum carbide per kg harga
