Aplikasi target tantalum
Target tantalum biasanya disebut target polos. Target ini pertama-tama dilas ke target berlapis tembaga, kemudian dilakukan sputtering semikonduktor atau optik untuk mendepositkan atom tantalum pada material substrat dalam bentuk oksida untuk mencapai pelapisan sputtering; target tantalum terutama digunakan dalam pelapisan semikonduktor, pelapisan optik, dan industri lainnya. Dalam industri semikonduktor, logam tantalum saat ini terutama digunakan sebagai material target untuk membentuk lapisan penghalang melalui pengendapan uap fisik.
Deposisi sputtering serat,
Pelapisan wafer semikonduktor dan sirkuit terpadu
Pelapisan sputtering katoda
Pemompaan vakum tinggi dari bahan aktif
Parameter target tantalum
| Bahan | Target Ke |
| Kemurnian | 99.9%-99.99% |
| Ukuran | Diameter 1", "2", 3", 4" atau Disesuaikan |
| Kepadatan Relatif | di atas 99% |
| Membentuk | Bulat, persegi panjang, butiran, atau disesuaikan |
| Ikatan | Indium, Elastomer |
| Permukaan | Tanah |
| Surat Perintah Kerja (SAK) | Akan diberikan melalui email setelah pengiriman |
| Analisa | ICP-OES atau MSDS |
| Kutipan | Balas dalam waktu 24 jam |
| Kemasan | Disegel vakum di dalam dan kotak kayu di luar |
Kami adalah pilihan terbaik dan paling terjamin bagi Anda
1. Tim konsultasi pra-penjualan yang profesional dan tepat waktu
2. Tim dukungan penjualan satu lawan satu
3. Tim manufaktur profesional
4. Tim layanan purna jual ala Butler
Kunjungan pelanggan dan lingkungan perusahaan
