Lapisan optik
Menggunakan:Target niobiumdigunakan untuk menyimpan film NB reflektivitas tinggi (misalnya, reflektivitas> 95% pada sudut kejadian 45 derajat) pada laser dan detektor inframerah.
Parameter Proses: Tekanan sputtering gas AR 0. 5 pa, kepadatan daya 3 w/cm², laju pengendapan sekitar 10 nm/menit.
Kemasan elektronik
Gunakan: Bentuk target gabungan dengan tembaga untuk menyiapkan substrat kemasan dengan konduktivitas termal tinggi dan koefisien ekspansi termal rendah.
Struktur Khas: Target Komposit Multilayer Cu/NB/Cu, Konduktivitas Termal> 200 W/(M · K).
Tampilan Gambar Produk Target Niobium Target Tinggi
Target niobium kemurnian tinggi
Logam target niobium kemurnian tinggi